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果新专利暗示iPhone7设计更接近iP

2019-01-11 23:02:00

苹果将在今年发布的iPhone 6s和iPhone 6s Plus将不会在外观上有太大的变化,因此对于明年的iPhone

7,大家似乎更加充满了兴趣。之前有一位名叫Ivo Maric的艺术家在自己的Instagram账号上放出了自己将iPhone 4和iPhone

6设计风格融合到一起的iPhone 7假想图,收到了不少人的关注。而根据的迹象来看,对于之前iPhone

4所采用了有棱角及平面设计风格感兴趣的不仅仅是设计师们,就连苹果公司本身也没有放弃这种想法。

根据苹果的一份专利显示,苹果正在研发一种能够使智能金属边框平坦有光泽同时边缘锐利的新方法。而这份专利还详细的描述了自己的想法概要。

不过这份专利本身并不能说明太多问题,毕竟这项专利可以应用在任何大小和形状的设备上,比如Apple

Watch和MacBook等,而并不仅仅局限于iPhone。从图片上的设计风格来看,非常接近于当年大获成功的iPhone 4。而iPhone

4的发布时间是2010年6月,而苹果这项专利的提交时间在2015年7月。

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